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真空蒸鍍?cè)?
將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。
蒸鍍方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。
（1）直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過(guò)真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬慑冧X薄膜。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進(jìn)行表面涂布。另外，在蒸鍍過(guò)程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有一定的限度。
(2)轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國(guó)外已將轉(zhuǎn)移法應(yīng)用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國(guó)主要采用轉(zhuǎn)移法生產(chǎn)鍍鋁紙。[2]
鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程：
基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測(cè)厚→展平→收卷
鍍鋁膜遇水會(huì)氧化嗎
說(shuō)的是不是油墨的附著力不好，鋁面應(yīng)該是先上一層打底清漆的再印刷，這種鍍鋁膜保護(hù)清漆應(yīng)該很多也很成熟。印在哪一面，膜只要電暈值夠了一般不會(huì)有問(wèn)題?？梢栽阱冧X膜的鋁層涂一層酸試一下。涂覆酸之后，能有效保護(hù)鋁層，隔絕空氣，防止氧化。同時(shí)不會(huì)影響到鋁層的反射，從而保持光澤。
目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。
真空鍍鋁常見(jiàn)問(wèn)題及對(duì)應(yīng)的解決方法
真空鍍鋁常見(jiàn)問(wèn)題及對(duì)應(yīng)的解決方法如下：
1、真空鍍鋁時(shí)薄膜出現(xiàn)孔洞
原因：
①蒸發(fā)舟內(nèi)鋁料太滿(mǎn)。解決方法：降低送鋁速度；提高蒸發(fā)舟電流。
②真空室內(nèi)蒸發(fā)舟之間出現(xiàn)短路。解決方法：排除短路。
③真空室內(nèi)雜質(zhì)飛濺。解決方法：清潔真空室內(nèi)壁、送鋁蒸鍍裝置、冷卻轉(zhuǎn)鼓、放卷、卷取裝置及各導(dǎo)輥。
2、真空鍍鋁時(shí)薄膜出現(xiàn)拉伸現(xiàn)象
原因：
①基材張力太大。解決方法：調(diào)節(jié)放卷、卷取張力控制系統(tǒng)，適當(dāng)減少?gòu)埩Α?
②冷卻系統(tǒng)工作失常。解決方法：檢查冷卻系統(tǒng)，并排除故障。
3、真空鍍鋁薄膜表面出現(xiàn)褐色條紋
原因：
①真空度低。解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。
②薄膜釋放氣體。解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長(zhǎng)抽真空時(shí)間。
③噴鋁過(guò)多。解決方法：提高車(chē)速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。
④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì)。解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。
⑤蒸發(fā)舟老化。解決方法：更換蒸發(fā)舟。
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